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美光预告 G11 NAND 闪存:超 400 层堆叠且密度翻倍,预计 2027H2 产能爬坡
美光预告 G11 NAND:超 400 层堆叠,双倍密度,2027H2 产能爬坡
AI 导读
美光在技术网络研讨会上预告预计 2027H2 产能爬坡的 G11 NAND 闪存,跳过了 G10 世代。该闪存采用晶圆对晶圆键合技术,堆叠超过 400 层,按面积计算的存储密度达到现有 276 层 G9 NAND 的 2 倍左右,I/O 速率至高提升 1.5 倍且传输能耗降低 25% 以上。
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