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美光预告超400层G11 NAND闪存

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AI 综述

2026年10月22日,美光在技术网络研讨会上预告了G11 NAND闪存,并确认将跳过G10世代,预计于2027年下半年进行产能爬坡。据介绍,G11闪存采用晶圆对晶圆键合技术,堆叠层数超过400层。在性能与规格方面,其按面积计算的存储密度达到现有276层G9 NAND的2倍左右,I/O速率至高提升1.5倍,同时传输能耗降低25%以上。

AI 根据报道生成 · 3 小时前更新

报道时间线

沿着报道,了解事件的不同侧面。

10月22日
  1. IT之家 · AI 筛选
    美光预告 G11 NAND 闪存:超 400 层堆叠且密度翻倍,预计 2027H2 产能爬坡

    美光在技术网络研讨会上预告预计 2027H2 产能爬坡的 G11 NAND 闪存,跳过了 G10 世代。该闪存采用晶圆对晶圆键合技术,堆叠超过 400 层,按面积计算的存储密度达到现有 276 层 G9 NAND 的 2 倍左右,I/O 速率至高提升 1.5 倍且传输能耗降低 25% 以上。

本事件热度走势

当前热度 9·可比范围峰值 10(10月22日 11:00)·近 24 小时可比范围变化 –

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